抢占国内市场!化学机械抛光液厂商昂士特授权世强硬创全线代理

2023-09-06 世强

为给全球客户提供最优质的抛光液以及最佳的表面技术解决方案,2023年7月20日,昂士特科技(深圳)有限公司(以下简称“昂士特”,英文名:ANST)与世强先进(深圳)科技股份有限公司(下称“世强先进”)正式签署授权代理协议。

 

根据具体协议内容,昂士特介质层化学机械抛光液浅槽隔离化学机械抛光液钨化学机械抛光液硅晶圆化学机械抛光液碳化硅晶圆化学机械抛光液超精密加工抛光液等全线产品上线世强硬创平台。

 

据了解,昂士特是一家集研发、生产、销售于一体的专精特新企业,致力于开发集成电路关键紧缺新型材料。


该公司现有两类层间电介质(ILD)化学机械抛光液,包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液和氧化铈纳米颗粒的抛光液。氧化硅纳米颗粒的ILD抛光液具有高去除速率、高平坦化效率、低缺陷的优点;氧化铈纳米颗粒的ILD抛光液具有高去除速率、高平坦化效率、低缺陷、低成本的优点。

 

基于氧化铈纳米颗粒的浅槽隔离(STI)化学机械抛光液用于集成电路制造工艺中浅槽隔离的抛光,具有高选择比、选择比可调、高平坦化效率、低缺陷率和低成本等优点。

 

通常,金属钨抛光液用于集成电路制造工艺中钨塞和钨通孔的平坦化。昂士特旗下现有两种基于氧化硅磨料的钨化学机械抛光液,包括高选择比的钨本体抛光液和高稀释比的钨本体抛光液,且具有可调的钨去除速率,可应用于逻辑芯片和存储芯片中钨的平坦化。

 

此外,昂士特拥有三大系列(粗抛、边抛、精抛)硅片化学机械抛光液,包括循环时间长、高纯度的硅片粗抛抛光液;高抛光速率、低粗糙度的硅片边抛抛光液和高平整度、低缺陷的硅片精抛抛光液。产品可用于逻辑芯片和存储芯片中硅衬底的平坦化,以及多晶硅、再生硅和其他硅应用的表面平坦化。

 

同时,还拥有多款不同类别的碳化硅化学机械抛光液,适用于不同尺寸下4H及6H构型碳化硅晶圆的粗抛与精抛,具有高去除率、高平坦化速率、可浓缩和低腐蚀性或无腐蚀性的产品特性。

 

旗下氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液,可用于不锈钢、铝合金、钛合金、陶瓷等材料的抛光,产品线分为平抛和3D抛,产品具有去除率高、抛光后粗糙度低于10nm、光泽度高、易于清洗等优点。


近年来由于下游应用市场发展迅速,对化学机械抛光液需求仍在持续扩大。经过本次与世强先进联手,借助世强硬创线上+线下经营模式,不断深化昂士特产品在市场的应用,同时也助于提升业绩、扩大昂士特产品在全球的市场份额。


昂士特科技(深圳)有限公司(以下简称“昂士特”)成立于2019年初,是一家集研发、生产、销售于一体的高新技术企业,致力于开发集成电路关键紧缺新型材料。公司秉承“锲而不舍、奉献担当”的价值理念,坚持“自主研发、规模生产”的目标宗旨,力求为全球客户提供最优质的抛光液以及最佳的表面技术解决方案。    查看更多

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  • abbott wang Lv7. 资深专家 2023-09-24
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  • 用户95404288 Lv8. 研究员 2023-09-23
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